MEMS技术、产线服务:
1.基于SOI片、硅片的传感器流片代加工服务4、6、8寸,其中Si的DRIE刻蚀工艺(深度1-650um,陡直度≥89°)、PECVD低温长膜工艺,调控应力工艺等;
2.玻璃晶圆、石英片、PMMA、PET等衬底微纳加工服务,包括光刻、刻蚀、长膜、溅射金属(Cr、Au、Ti、Ni、Cu、Pt、SiO2、Nb)、电镀Au、Cu、Ni(1-50um)等